base makeup
皮脂テカ防止 さらふわハイカバー下地
マットシフォン UVハイカバーベース
¥ 1,760 (税込)メーカー希望小売価格
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37 g
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- マットシフォン UVハイカバーベース 01
- 水、酸化亜鉛、シクロペンタシロキサン、イソノナン酸イソノニル、メタクリル酸メチルクロスポリマー、PG、メトキシケイヒ酸エチルヘキシル、PEG-9ジメチコン、ジメチコン、トリメチルシロキシケイ酸、(メタクリル酸ラウリル/ジメタクリル酸グリコール)クロスポリマー、イソドデカン、イソペンチルジオール、グリチルリチン酸2K、ポリクオタニウム-51、レシチン、コメヌカ油、カミツレ花エキス、ヒアルロン酸Na、コメヌカスフィンゴ糖脂質、クエン酸Na、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル、ジステアルジモニウムヘクトライト、タルク、ハイドロゲンジメチコン、(ジメチコン/ビニルジメチコン)クロスポリマー、水酸化Al、(アクリレーツ/アクリル酸エチルヘキシル/メタクリル酸ジメチコン)コポリマー、セルロース、メチルパラベン、EDTA-2Na、メチコン、BHT、BG、グリセリン、オレイン酸ポリグリセリル-10、トリ(カプリル酸/カプリン酸)グリセリル、酸化チタン、酸化鉄、酸化スズ
- マットシフォン UVハイカバーベース 02
- 水、酸化亜鉛、シクロペンタシロキサン、イソノナン酸イソノニル、メタクリル酸メチルクロスポリマー、PG、メトキシケイヒ酸エチルヘキシル、PEG-9ジメチコン、ジメチコン、トリメチルシロキシケイ酸、(メタクリル酸ラウリル/ジメタクリル酸グリコール)クロスポリマー、イソドデカン、イソペンチルジオール、グリチルリチン酸2K、ポリクオタニウム-51、レシチン、コメヌカ油、カミツレ花エキス、ヒアルロン酸Na、コメヌカスフィンゴ糖脂質、クエン酸Na、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル、ジステアルジモニウムヘクトライト、ハイドロゲンジメチコン、タルク、(ジメチコン/ビニルジメチコン)クロスポリマー、水酸化Al、(アクリレーツ/アクリル酸エチルヘキシル/メタクリル酸ジメチコン)コポリマー、セルロース、メチルパラベン、EDTA-2Na、BHT、メチコン、BG、グリセリン、オレイン酸ポリグリセリル-10、トリ(カプリル酸/カプリン酸)グリセリル、酸化チタン、酸化鉄、酸化スズ
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しっかりカバーしながらテカリを抑える、さらふわ下地
光効果で明るく補正するブライトアップパウダー配合で、毛穴・色ムラなどの肌悩みをしっかりカバーしながら、過剰な皮脂を吸収して長時間さらふわ肌をキープ。透明感のあるワントーン明るい美肌を演出します。
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SPF50+ PA+++
高いUVカット指数で、強力紫外線から肌を守り、日やけによるシミ・ソバカスを防ぎます。
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ヒアルロン酸・リピジュア®※1・植物性セラミド※2・カモミラエキス配合(すべてうるおい成分)
※1 ポリクオタニウムー51※2 コメヌカスフィンゴ糖脂質
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ニキビのもとになりにくい処方※
※ノンコメドジェニックテスト済。全ての方にコメド(ニキビのもと)が発生しないということではありません。
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